1.32. 枪是一种先进的真空溅射镀膜器件，可用于进行多种真空镀膜工艺。

2. 采用磁控共溅射法制备了含不同尺寸纳米硅晶粒的氧化硅复合薄膜。

3. 在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中，离子源是其中最关键的单元技术之一。

4.65. 一蓬黑血溅射出一只拳头大的眼,其中的不甘让人有着瞬间的悲悯,随之砰然化为了飞烟。

5.7. 所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。

6. 过高的溅射功率使薄膜以非晶态的形式存在.

7. 并且随着阴极温度升高,阴极溅射率也随之增加.

8.61. 介绍一种大功率直流溅射恒流电源的设计。

9. 一是因畸变层与非畸变层的扩散系数不同，结果由扩散导致交界区出现原子富集；二是离子轰击的溅射作用和溅射衰减效应使得出现内层的浓度峰。

10.6. 溅射时间越长或溅射功率越大或装载量越少，都有利于薄膜结晶。

11. 研究结果表明，磁控溅射制备的碳氟膜为非晶结构。

12.64. 数百妖兽死后溅射出的血液,激起后方妖兽的凶性,舍生忘死地冲向西门吹雪化成的死亡白光之内。

13. 低溅射功率下，与键角畸变有关的结构无序是导致光学带隙变窄的主要因素。

14. 利用磁控射频溅射技术制备了ITO薄膜。

15.2. 这是溅射离子簇质谱中继“幻数”结构的另一个重要性质。

16. 溅射原子发射的角分布概率和溅射花样与高能溅射相类似。

17. 离化团束的溅射产额比之单体离子束高100倍以上。

18. 一个个子不高的小胖子,笨拙的游趟在湖底,瞪大那双水灵灵的小眼睛,憨头憨脑的四处环望,不时狼狈的躲避着那溅射起的熔炎。

19. 为改善射频溅射法制备的防水透湿涂层的外观和拒水性，对涤纶织物基底上的溅射氟碳高分子膜的泛黄问题进行了研究。

20. 也可以单独作为磁控溅射或多弧离子镀膜机使用。

21. 磁控溅射离子镀铝膜不是简单的单质外接铝膜，而是铜和铝组成的合金膜。

22. 在双元靶严格解的基础上，证明了泽优溅射与原子的半径大小无关。

23. 现在反应溅射法已被广泛应用于切削刀具、成型工具、注射模具和诸如冲头和冲模之类的通用器具，以增强其耐磨性和使用寿命。

24.两套磁控溅射靶和冷却靶台。

25. 采用磁控射频溅射法制备光波导用玻璃薄膜。

26. 真空室内的气体等离子体可由热灯丝或射频放电产生，4另外还配置了4个金属等离子体源、两套磁控溅射靶和冷却靶台。

27. 用射频反应溅射法制备出BCN薄膜。

28. 研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅射制备ITO透明号电膜。

29. 用直流反应磁控溅射法制备了氧化镍电致变色薄膜,采用XRD和TEM对所制的薄膜结构进行了研究.

30. 辉光光谱定量转化所得深度结果与表面形貌仪刚定相应溅射坑的深度结果对比发现，本方法定量转化深度结果准确可靠。

31.16. 也可以单独作为磁控溅射或多弧离子镀膜机使用。

32. 应用TRIM程序模拟了离子在氚钛靶上的溅射产额。

33.39. 在不同的衬底温度下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。

34.11. 为改善射频溅射法制备的防水透湿涂层的外观和拒水性，对涤纶织物基底上的溅射氟碳高分子膜的泛黄问题进行了研究。

35. 首先提出真空管道自体真空镀膜新概念，采用特殊的阴极靶结构设计成功的解决了长管道内表面直流溅射镀膜的难题。

36.45. 采用磁控溅射法制备锰铜薄膜,溅射和真空蒸发法制备镱薄膜.

37. 老实说,狂战斧挺好用的,它可以带来相当可观的攻击加成,恢复能力,并且它还有溅射效果.

38. 与常用的电镀法和室温溅射法相比，大幅度的降低了电极的载铂量，减小了电池的制作成本。

39. 三极反应溅射具有设备简单，工艺简便，镀层致密等特点。

40.4. 本文主要论述基板员偏压与铜基体磁控溅射离子镀铝膜的关系。

41.18. 高Z材料因其高熔点和低溅射率近年来受到越来越多的关注，但是难熔材料的脆性等问题仍然是这类材料应用的一大障碍。

42. 反应磁控溅射广泛应用于制备光学薄膜.

43. 通过磁控反应溅射，在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜。

44. 采用射频溅射制备BST薄膜，研究了薄膜的介电击穿特性。

45.44. 利用磁控射频溅射技术制备了ITO薄膜。

46. 采用磁控溅射法制备锰铜薄膜,溅射和真空蒸发法制备镱薄膜.

47.68. 具有自己生产蒸发和溅射匀胶铬版的知识产权。

48. 介绍一种大功率直流溅射恒流电源的设计。

49.40. 离化团束的溅射产额比之单体离子束高100倍以上。

50.溅射和热解等方法。