1.本文主要介绍了用于软X射线显微术的氮化硅窗口的制备工艺，给出在国家同步辐射实验室软X射线显微术实验站使用的实验结果。

2.在高ECR等离子体密度下沉积高质量氮化镓薄膜。

3.硬铬层中的网状裂纹经离子氮化后裂纹闭合，使硬铬层的耐蚀性显著提高。

4.方法：以对硝基苯甲酰氯为原料，经氨解、氢化、重氮化及偶合四步反应得到了巴柳氮。

5.过渡金属氮化物是一类金属间充型化合物，兼具有共价化合物、离子晶体和过渡金属的性质。

6.前者用刚玉和碳化硅等普通磨料，后者用金刚石和立方氮化硼等超硬磨料制成。

7.传统服务器是在机房中备受呵护“温室花朵”,无法耐受外部空气中的二氧化硫、氮化物等有毒气体的腐蚀。

8.这是一个五步反应，包括重氮化偶合反应、氯置换反应、缩合反应、水解反应、缩合反应。

9.简单地加入另外的气体例如乙炔,就能形成铬的碳氮化合物.

10.氮化硼作为一种性能优异的先进陶瓷材料，其应用及新的合成方法成为材料研究领域的热点和前沿问题。

11.硬铬层中的网状裂纹经离子氮化后裂纹闭合，使硬铬层的耐蚀性显著提高。

12.吡咯类含氮化合物作为油气运移示踪剂有其独特的优势。

13.同时,我们也针对在不同长晶温度下以氮化镓为基底的氧化锌薄膜结构进行研究.

14.通过将石墨烯薄片放置在一个氮化硅薄膜上，并用电子束在石墨烯上打出纳米尺度的孔，他们制作出了一系列从5到25nm直径的孔。

15.CBN230金黄色立方氮化硼单晶，等积形透明晶体，高韧性，高强度。

16.实验发现气凝法生成的氮化镓奈米微粒以均匀的圆球形分布.

17.烧结助剂是影响氮化硅陶瓷的显微结构和性能的关键因素之一。

18.介绍了侧链氯化、氧化、重氮化和偶合的工艺及设备。

19.汽巴公司发明了用极性电压法控制连续重氮化过程中亚硝酸盐加入速度的探测系统，赫斯特公司发明了连续式偶合装置。

20.提高氮化合金的生产能力，降低生产成本，采用了PSA制氮系统。

21.研究了烧结技术对氮化硅陶瓷显微结构和力学性能的影响。

22.研制了三类不同金属和III族氮化物接触的肖特基势垒二极管。

23.氮化硅陶瓷广泛用作高温结构材料，是很有前途的陶瓷材料之一。

24.这类含氮化合物的例子是咪唑,三聚氰酸三酰胺,三聚氰酸一酰胺.

25.亚硝基化合物没有直接致癌作用，主要是其化学性质活泼易生成烷基偶氮羟基化合物和氨氮化合物而呈现致癌活性。

26.在不同的衬底温度下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。

27.我们比较擅长的反应类型有:烷基化,氧化,还原,重氮化,卤化等.

28.研究以碳作为还原剂，还原氮化五氧化二钒制备氮化钒过程中的还原氮化反应动力学。

29.在不同条件下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。

30.研究了微碳铬铁、氮化铬铁中钛与二安替比林甲烷的显色反应.

31.而向立方型氮化硼的转变其晶体的切变是必不可少的，这种相变主要依靠高压下位错运动而产生。

32.1961年，北京第二机床厂开始采用气体氮化淬火。

33.卤素原子同氮化合物一样，作为净化剂。

34.锯齿型氮化硼纳米带的化学势在特定宽度出现了极值点。

35.另一篇不错的宽能隙氮化物系列的论文.

36.CBN230金黄色立方氮化硼单晶，等积形透明晶体，高韧性，高强度。

37.本文介绍钛材离子氮化工艺对其组织结构和性能的影响。

38.预变形对含钒钢和含钛钢的碳氮化物析出动力学的影响很小，组织发生了再结晶并生成铁素体组织。

39.这类含氮化合物的例子是咪唑,三聚氰酸三酰胺,三聚氰酸一酰胺.

40.本文阐述了在氮化镓生长中使用的蓝宝石晶片净化的重要性.

41.这篇論文中，我们使用脉冲电流探讨直流电流下，高功率氮化镓发光二极体发光效率衰减的因素。

42.氧化物表层上面的氮化物保持原状不动.

43.本文中，我们探讨了水热合成立方氮化硼过程中，二次氮源的加入温度对产物中物相种类及其含量的影响。

44.这篇論文中，我们使用脉冲电流探讨直流电流下，高功率氮化镓发光二极体发光效率衰减的因素。

45.双层辉光离子渗金属技术是在离子氮化基础上发展的表面冶金技术.

46.本公司是金刚石和立方氮化硼工具制品的专业制造企业。

47.论述了氮化硅陶瓷材料的特点，选择了氮化硅陶瓷轴承作为有机硅室温胶搅拌釜底轴承并进行了相应设计。

48.本发明公开了一种刻蚀停止层，包括在衬底上形成的含氮的碳化硅层，以及位于所述碳化硅层之上的氮化硅层。

49.双层辉光离子渗金属技术是在离子氮化基础上发展的表面冶金技术.

50.分析了过渡金属氮化物催化剂的吸氢活性、吸附机理.