1.45. 采用磁控溅射法制备锰铜薄膜,溅射和真空蒸发法制备镱薄膜.

2. 辉光光谱定量转化所得深度结果与表面形貌仪刚定相应溅射坑的深度结果对比发现，本方法定量转化深度结果准确可靠。

3.溅射和热解等方法。

4. 本论文对真空蒸发法和直流溅射法沉积锌膜的工艺进行了研究，结合XRD、SEM、AFM等分析手段，以探索这两种方法在制备锌膜方面的一般规律。

5. 一蓬黑血溅射出一只拳头大的眼,其中的不甘让人有着瞬间的悲悯,随之砰然化为了飞烟。

6.16. 也可以单独作为磁控溅射或多弧离子镀膜机使用。

7. 本文利用正交实验方法，对非平衡磁控溅射技术制备无氢DLC膜增透膜进行了研究，得到了影响薄膜光学性能的主要因素和最佳的制备工艺。

8. 离化团束的溅射产额比之单体离子束高100倍以上。

9. 一是因畸变层与非畸变层的扩散系数不同，结果由扩散导致交界区出现原子富集；二是离子轰击的溅射作用和溅射衰减效应使得出现内层的浓度峰。

10.溅射、眩光，彻底消除眼睛疲劳，且不含液态汞。是绿色环保的首选光源。

11. 用磁控溅射低温沉积镀膜技术制做锰铜薄膜,能够保持薄膜中锰、铜、镍成份的相对稳定和锰铜合金正六面三元固溶体金相结构的特性.

12.38. 对于反应溅射，可通过连续改变反应气体流量制得化学成分比连续变化的梯度薄膜。

13.52. 本文用光谱分析的方法研究低温反应射频溅射生长的A1N薄膜。

14. 本文将主要叙述等离子溅射镀膜的原理与方法,并且简单介绍磁控管溅射仪和锇等离子镀膜仪等.

15. 反应溅射中氧分压对薄膜的影响也很大，较高的氧气分压有助于较好结晶的二氧化钛薄膜的生成。

16.21. 采用氢离子溅射和X射线光电子能谱相结合的方法，检测焦磷酸盐镀铜层和铁基体界面区含氧量的变化，证明了氧化层的存在。

17.60. 与常用的电镀法和室温溅射法相比，大幅度的降低了电极的载铂量，减小了电池的制作成本。

18.用于消除直流反应溅射中异常放电的技术。

19. 方法：用电子束蒸发和射频磁控溅射两种技术制备了天然HA薄膜。

20. 真空室内的气体等离子体可由热灯丝或射频放电产生，4另外还配置了4个金属等离子体源、两套磁控溅射靶和冷却靶台。

21. 溅射原子发射的角分布概率和溅射花样与高能溅射相类似。

22.32. 枪是一种先进的真空溅射镀膜器件，可用于进行多种真空镀膜工艺。

23. 在理论上考虑了原子级联碰撞过程中的能量和动量传输的不对称性，给出了一个与实验结果相符的同位素溅射角分布表达式。

24. 也可以单独作为磁控溅射或多弧离子镀膜机使用。

25.1. 采用磁控溅射方法制备金属锑薄膜，并把它作为锂离子二次电池负极进行研究。

26. 磁控溅射离子镀铝膜不是简单的单质外接铝膜，而是铜和铝组成的合金膜。

27. 声声闷响传出,夏天身体呈现红金二色,二者相互争持侵蚀,三百六十道光点一个个的开始爆裂,尤为刺眼的血红色血液从中溅射而出。

28.36. 以磁控溅射沉积方法，采用循环氩离子轰击镀和未循环轰击镀工艺在金属*上制备了铝薄膜。

29. 研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅射制备ITO透明号电膜。

30. 在双元靶严格解的基础上，证明了泽优溅射与原子的半径大小无关。

31. 在纳晶敏化太阳能电池中，载铂对电极的制备通常有电沉积、溅射和热解等方法。

32.7. 所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。

33. 无闪烁、溅射、眩光，彻底消除眼睛疲劳，且不含液态汞。是绿色环保的首选光源。

34. 所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。

35. 本文主要论述基板员偏压与铜基体磁控溅射离子镀铝膜的关系。

36. 通过磁控反应溅射，在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜。

37.66. 声声闷响传出,夏天身体呈现红金二色,二者相互争持侵蚀,三百六十道光点一个个的开始爆裂,尤为刺眼的血红色血液从中溅射而出。

38.26. 春雨啊，哗哗地下，雨珠落在湖面上，像珍珠落在玉盘里四面溅射；雨珠落在干土上，地皮上陷下一个小坑，像草原姑娘脸上的笑靥。雨好牧草就好，牧草好牲口就好，牲口好牧民的生活就好。

39.14. 三极反应溅射具有设备简单，工艺简便，镀层致密等特点。

40. 脉冲溅射是一种新型的、用于消除直流反应溅射中异常放电的技术。

41. 采用磁控溅射方法制备金属锑薄膜，并把它作为锂离子二次电池负极进行研究。

42. 磁控溅射离子镀铝膜不是简单的单质外接铝膜，而是铝和铁组成的合金膜。

43. 采用氢离子溅射和X射线光电子能谱相结合的方法，检测焦磷酸盐镀铜层和铁基体界面区含氧量的变化，证明了氧化层的存在。

44. 反应磁控溅射广泛应用于制备光学薄膜.

45.51. 用射频溅射的方法制备得的钆钴膜具有垂直于膜面的单轴各向异性。

46.19. 本文将主要叙述等离子溅射镀膜的原理与方法,并且简单介绍磁控管溅射仪和锇等离子镀膜仪等.

47.3. 研究结果表明，磁控溅射制备的碳氟膜为非晶结构。

48. 低溅射功率下，与键角畸变有关的结构无序是导致光学带隙变窄的主要因素。

49.68. 具有自己生产蒸发和溅射匀胶铬版的知识产权。

50.70. 因为先被切开的切口处会因为血压的关系溅射出血液,这也是喷溅型血渍的成因。